HF酸刻蚀相关论文
熔石英玻璃光学性能优良,紫外波段透过率高,广泛的应用于强光光学系统中。在高功率激光辐照下,熔石英光学元件的激光诱导损伤成为......
介绍了熔石英亚表面缺陷(SSD)的深度分布与粒径的量化关系及表面粗糙度的量化,以及杂质引起热破坏、裂纹导致电场增强、缺陷导致机......
为降低熔石英元件的损伤密度,本文提出了磁流变抛光与HF酸刻蚀组合工艺降低杂质元素含量的方法。对熔石英样品进行磁流变抛光和HF......
采用HF酸对熔石英材料刻蚀不同的时间,利用同步辐射X射线荧光成像方法（SXRF）研究熔石英材料亚表面区域的杂质种类和相对含量,利用AFM......
以Li2O-Al2O3-SiO2为玻璃系统，采用化学刻蚀法对曝光和热处理后的光敏微晶玻璃进行处理，研究了刻蚀工艺参数对基片加工性能的影响，利......
用hf酸刻蚀熔石英元件,研究刻蚀对元件后表面划痕的形貌结构及损伤性能的影响,探索损伤阈值提升的原因.时域有限差分算法理论计算......
光学材料表面及亚表面缺陷严重降低了元件抗激光损伤的能力,使其成为了制约高功率激光系统的重要瓶颈。追求制造出零缺陷的工艺,延......
自从90年代初生物芯片的诞生以来,生物芯片技术得以迅猛的发展,生物芯片研制和分析的前提条件是生物芯片的制备,而制备生物芯片的......
为提升紫外熔石英元件抗激光损伤性能,针对传统加工方法在加工过程中产生的破碎性缺陷和污染性缺陷,提出使用磁流变抛光结合HF酸刻......
