HPPMS相关论文
类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜是一类亚稳态非晶碳膜,具有高硬度、低摩擦系数以及高化学惰性等优异性能,广泛应用于机械......
The target sputtering modes influence the deposition process and films structure in reactive high power pulse magnetron ......
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is defined as pulsed sputtering where the peak power exceeds the time-ave......
采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜。分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织......
高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术,近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术（也被称为HP......
文章指出叠加直流的HPPMS技术有直流部分占空比较高和不可控制2大缺点,在做沉积薄膜实验时无法提供溅射所需的高功率,导致空比较低......
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近几年国内外研究发展起来的高功率脉冲磁控溅射技术(High power pulsemagnetron sputtering(HPPMS))，是将直流磁控溅射和高功率脉......
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)以其在真空镀膜上更大的优势而越来越受到重视,高压大电流电源是实现HPPMS的关键因素。本文研制了1000 ......
