在航空航天领域,一些重要的设备一般在高温、强烈振动、重油性、强压力等恶劣环境中工作。由于这些设备在这种环境下较长时间的工......

片式薄膜电阻一般采用平面磁控溅射NiCr薄膜沉积在三氧化二铝陶瓷基片上。然后通过光刻工艺来实现电阻图形，通过使用扫描电子显微镜......

本文采用磁控溅射法在０．５ｍｍ厚的４０Ｃｒ钢基片上沉积１￣１２μｍ的ＮｉＣｒ合金薄膜，运用钠光平面干涉法测量ＮｉＣｒ溅射薄膜的内应在力，研究表明影响ＮｉＣｒ薄膜内应力的主要因素......

研究了氮气分压对薄膜沉积速率、表面形貌、电阻温度系数（TCR）以及电阻率的影响。利用原子力显微镜表征了薄膜的表面形貌，用Alpha—St......