Ru薄膜相关论文
采用射频磁控溅射法在功率用半导体散热片Mo上制备了不同本底真空度的Ru薄膜,利用能谱仪、X射线衍射仪、纳米划痕仪及电化学工作站......
采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜,利用真空退火炉、EDS、XRD,台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分......
以不同晶面的Si片作为基底，室温下，采用射频磁控溅射的方法制备得到Ru非磁性薄膜。利用x射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（sEM）和原子力......
采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜,利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形......
