三甲基镓相关论文
氢在GaN薄膜制备工艺中扮演很重要的角色,氢主要有两个来源,一是载气氢,另一个来源是从TMG气源本身离解出来的氢产物。本文研究了......
八十年代以来，由于发现铝、镓、铟的金属有机化合物在制备半导体材料、特种陶瓷和电致发光材料等方面具有重要的应用价值 [1],因此，......
通过2-(2-苯并唑)-4-甲氧基苯酚、2-(2-苯并唑)苯酚与三甲基镓、三甲基铟反应,合成了四个新的金属有机化合物,并用元素分析、质子......
期刊
采用自行研制的立式MOCVD生长系统,以TMGa、TEGa为Ga源,在不同的生长条件下生长GaN单晶膜.然后对样品进行室温光致发光光谱测试、......
合成了八个新型的三甲基镓与侧链含酚羟基的氮杂冠醚所生成的配合物，用元素分析、红外、核磁共振和质谱的方法进行了表征，推断了它们......
对电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定高纯三甲基镓（99．9999％，相对于金属镓的含量）中Cu、Fe、Si、Zn等31种痕量杂质元素的含量......
期刊
本文建立了用ＩＣＰ－ＡＥＳ测定三甲基镓中杂质Ｃａ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ、Ｃｄ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ和Ｓｉ等１６种元素的方法。研究了样品的处理、基体镓对杂质元素的背景干扰......
<正> TMG 是制备砷化镓系列半导体薄膜普遍应用的金属源。它具有较大的蒸汽压和稳定性。通常制备 TMG 的方法是通过三氯化镓与其它......
<正> 金属有机法砷化镓气相外延工艺,国外已广泛用于微波和光电器件材料的制备。国内在微波器件材料的制备上也取得了一定的进展。......
<正> 本文叙述用三甲基镓（TMG）和砷烷（AsH3）制备砷化镓外延膜的初步结果,并对TMG引起的碳沾污作热力学估计,讨论了AsH3/TMG比对外延层......
三甲基镓是应用金属有机化学气相沉积工艺生产光电材料的关键原料。目前,我国仍需从国外大量进口三甲基镓产品,因此有必要分析三甲......
