两次曝光法相关论文
制作相移光纤光栅的方法有许多种,但用的最多的还是两次曝光法和遮挡法.本文通过分析两种方法所产生的相移的物理机制,发现在我们......
光子晶体是周期性的电介质结构,这种结构具有光子带隙是其最根本的特征。本文提出了利用双光束两次曝光法制备常规正方光子晶体,并......
对 0 .1微米级 MOS器件的制作方法进行了研究 ,并提出了两次曝光的新方法。文中还介绍了芯片制作所用版图设计和实际制作过程 ,得......
对0.1微米级MOS器件的制作方法进行了研究,并提出了两次曝光的新方法.文中还介绍了芯片制作所用版图设计和实际制作过程,得到了最......
本文介绍了一种利用两次散斑曝光技术测量介质折射率的实验方法．原理简单、操作方便、测量精度高．......
