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低K电介质相关论文
集成电路铜互连线及相关问题的研究
论述了Cu作为互连金属的优点、面临的主要问题及解决方案,介绍了制备Cu互连线的双镶嵌工艺及相关工艺问题,讨论了Cu阻挡层材料的作用......
期刊
集成电路
铜互连线
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copper interconnect
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low-k dielectrics
等离子体去胶对低K材料损伤的问题研究
本文介绍了铜镶嵌工艺中的低K电介质材料和电介质刻蚀/去胶技术,研究了In—Situ等离子体去胶对低K电介质材料损伤的问题并提出了最大......
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电介质材料
低K电介质
镶嵌工艺
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