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美国大规模集成电路用光学设备(出国参观考察报告)
<正> 前言中国科学院“大规模集成电路工艺、材料和设备考察团”于1979年5月21日至6月18日到美国参观考察,历时28天。考察团先后参......
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《出国参观考察报告——西德、法国光学技术》一书现已由科学文献出版社出版,因此,关于我国光学技术考察组出国参观访问的有关资料......
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