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可调控脉冲放电模式相关论文

HiPIMS技术低温沉积CrN薄膜结构及性能研究

目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控......

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HIPIMS 磁控溅射可调控脉冲放电模式双极脉冲放电模式基体偏压沉积温度组织结构 HiPIMSmagnetron sputteringmodulate

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