增强沉积相关论文
本文主要介绍了利用ECR-微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45＃钢基体上制备了Zr-N薄膜,并讨论了偏压对薄膜的微观结构和耐蚀性能......
分别采用氮离子束增强沉积和N－Ti离子束同步增强沉积工艺制备了Mo_2N和Mo_(2-x)TixN薄膜，用XRD、TEM、划痕和阳极极化方法研究了两者......
该文介绍了在ＰＳＩＩ原型机ＰＳＩＩ－ＥＸ装置上开展的等离子体源离子注入增强沉积工艺条件及工作方式探讨实验和实用工件ＰＳＩＩ或ＰＳＩＩ＋增强沉积处理，并简述了ＰＳＩＩ工业用......
本文报告了核工业西南物理研究院最近研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机。该机直径 90 0 m m,高 10 5 0 m m,立式放......
报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 ......
在金属衬底（Ａｌ，钢，铝－碳纤维），Ｎｉ３Ａｌ）上用离子束增强沉积形成氮硅化物的梯度薄膜。在薄膜的一侧有很高的电阻（１０＾７Ω），而在另一侧电阻很低（１Ω），在绝缘层和导......
本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法......
采用离子束辅助沉积技术（IBED）制备了一系列碳膜，重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明：采用CH4......
非平衡磁控溅射离子镀和等离子体浸没离子注入及沉积技术在表面改性技术中受到广泛重视。文中利用N等离子体浸没离子注入技术原位......
利用分析电子显微术的方法研究了离子束增强沉积的Si基TiN薄脱及其与基体间过渡区的结构,发现在TiN薄膜和基体间存在约50nm厚的非......
用离子束增强沉积技术合成了氮化硅薄膜并研究了薄膜的组分、性能和结构.结果表明,离子束增强沉积生长的氮化硅薄膜的组分比,可借......
