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多层膜光学元件相关论文
极紫外光学元件表面碳污染模型的建立
为有效评估和预测在极紫外光辐照下,极紫外光刻机中残留的碳氢化合物气体在多层膜光学元件表面造成的碳污染状况,建立了光学元件表......
期刊
光学元件
碳污染
光学器件
极紫外光刻
光学表面
多层膜光学元件
碳沉积
碳氢化合物
二次电子
模型
极紫外多层膜表面碳污染原子氢清洗技术研究
极紫外光刻技术(Extreme ultraviolet lithography-EUVL)是未来22nm节点以下的主流光刻技术。在曝光过程中,光刻机内部EUV多层膜表......
学位
极紫外光刻
多层膜光学元件
碳污染
原子氢清洗技术
椭圆偏光法
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