本文采用实验室自制的射频等离子体化学气相沉积(RF PECVD)设备在ITO玻璃基片上制备超薄类金刚石(DLC)膜。实验将沉积时间控制在1m......

用射频等离子体化学气相沉积法（ＲＦ－ＣＶＤ）和ＣＨ４、Ｎ２与Ａｒ组成的混合气体制备掺氮类金刚石薄膜（ａ－Ｃ： Ｈ： Ｎ）．用原子力显微镜（ＡＦＭ）、俄歇电子能谱（ＡＥＳ）、红外光谱（ＩＲ）以及显微拉曼......

以乙二醇二甲基醚为单体,采用射频等离子体化学气相沉积的方法制备类聚乙烯氧（PEO- like）功能材料。通过傅里叶变换红外光谱（FTIR）、X......

在不同射频功率条件下，实验研究了射频等离子体化学气相沉积类金刚石薄膜的金刚石相分数、光学常数和硬度。利用Raman光谱仪、椭圆......

采用射频等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）方法制备了沉积时间系列的微晶硅薄膜。采用椭圆偏振光谱仪（SE）和原子力显微镜（AFM）表征薄膜表......