微晶硅薄膜相关论文
在光伏领域中,晶体硅(包括单晶硅和多晶硅)太阳电池一直在市场中占有主导地位(约占95%以上),但是由于晶体硅是体材料,在太阳能电池......
采用射频等离子体增强化学气相沉积(radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition,RF-PECVD)技术在玻璃衬底上沉积......
微晶硅(μc-Si:H)薄膜材料是目前世界上太阳能电池研究的热点材料之一。微晶硅薄膜材料是由非晶母质、微晶粒、晶粒界间和少量微空......
能源危机和环境污染是人类可持续发展面临的严峻问题，而太阳能电池作为光伏转换器件，能有效地解决这一难题。由于硅基薄膜太阳能电池......
对于微晶硅薄膜电池，提高沉积速率是一种降低生产成本的有效方法，然而这会引起薄膜材料质量的下降，导致所制备电池的转换效率降低。本......
微晶硅薄膜材料具有电导率高、光照稳定性好和较宽的光谱响应等优点，是近年来热门的太阳电池材料。本文采用甚高频等离子增强化学气......
微晶硅薄膜(μc-Si:H)由于具有高电导率、较高迁移率、可大面积低成制本制备的优点,而在信息显示、大阳能电池等技术领域有广泛的......
混合相新型材料微晶硅薄膜结构的多元化造成了其电输运性质的复杂性,输运机制对薄膜制备条件和薄膜结构有很强的依赖性,同时表现出......
采用RF-PECVD技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质微晶硅薄膜,并深入研究了硅烷浓度对微晶硅薄膜微结构及电学性质的影响。研究结果表......
采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过......
本文采用VHF-PECVD技术制备了系列硅薄膜,通过椭圆偏振技术及拉曼测试手段研究了衬底表面预处理时间对微晶硅薄膜的微结构及其生长......
本文采用VHF-PECVD技术制备了系列硅薄膜,通过椭圆偏振技术及拉曼测试手段研究了p型微晶硅层对本征微晶硅薄膜结构特性的影响.实验......
采用射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)技术,在玻璃和硅衬底上沉积微晶硅(μc-Si:H)薄膜。利用拉曼光谱、AFM和电导率测试对......
采用等离子体增强化学气相沉积技术沉积一系列处于不同生长阶段的微晶硅薄膜.通过同步辐射X射线掠角反射技术研究微晶硅薄膜的表面......
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃衬底上低温制备了微晶硅(μc-Si:H)薄膜。利用拉曼(Raman)散射谱、原子力显微镜(AFM......
本文采用HWA-MWECR - CVD系统制备了微晶硅薄膜.研究了氢稀释比、反应压强以及微波功率对微晶硅薄膜非晶转微晶相变及其相关性能的......
本文研究了采用VHF PECVD技术制备的微晶硅薄膜的纵向均匀性。喇曼测试结果显示 :微晶硅薄膜存在着生长方向的结构不均匀 ,随厚度......
采用标度理论比较了不同速率下微晶硅薄膜的生长模式。结果是:低速时薄膜的生长指数为0.19,高速时薄膜的生长指数为0.61,两者生长......
较为系统的研究了甚高频化学气相沉积在高压高功率下生长的微晶硅薄膜.给出了功率密度-气体流量和压强-功率密度的二维相图.用朗缪......
采用热丝化学气相沉积技术制备了一系列处于不同生长阶段的薄膜样品,用原子力显微镜系统地研究生长在单晶硅衬底和玻璃衬底上薄膜......
采用x射线小角散射(SAXS)技术研究了由射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)、热丝化学气相沉积(HWCVD)和等离子体助热丝化学气......
采用VHF-PECVD技术制备了系列不同硅烷浓度和功率的微晶硅薄膜.材料的电学特性和结构特性测试结果表明:制备出了符合太阳电池用的......
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜.利用傅里叶变换红外吸收对制备薄膜进行了结构方面的测......
采用高压射频等离子体增强化学气相沉积方法在非晶和微晶两种n型硅薄膜衬底上沉积了一系列不同厚度的本征微晶硅薄膜,研究了不同n......
对以SiCl4和H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术在低温快速沉积优质高稳定性的微晶硅薄膜进行了研究.在低于250℃......
随着人类对能源需求的日益增加,太阳能作为一种可再生能源,越来越受到业界的广泛关注。其中硅基薄膜太阳能电池由于其材料成本低,......
利用等离子增强化学气相沉积（PECVD）技术，研究了H稀释度D=H2／（H2＋Sill。）对在玻璃和不锈钢衬底上低温制备微晶硅薄膜的晶化率、晶粒尺寸、......
系统研究了射频和甚高频下沉积微晶硅薄膜时沉积参数对薄膜质量的影响，并优化了沉积参数．在相同的沉积条件下，甚高频沉积速度明显大于......
采用VHF-PECVD技术在多功能系统(cluster tool)中制备了系列硅薄膜,研究薄膜的均匀性及电学特性和结构特性.结果表明:气压和功率的......
采用VHF-PECVD技术制备了两个气压系列不同生长阶段的微晶硅薄膜,通过椭圆偏振技术研究了生长过程中微晶硅薄膜表面粗糙度的演化.......
在低温(100℃)条件下采用磁控溅射在玻璃和硅(100)衬底上沉积氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜,研究不同氢稀释比对微晶硅薄膜微结构特性......
利用13.56MHz射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,高速沉积器件级质量的微晶硅(μc-Si:H)薄膜,研究了沉积压力、射频功率......
考查了等离子体增强化学气相沉积（PECVD）高压制备微晶硅（μc-Si：H）薄膜过程中,系统长时间使用造成的微晶硅薄膜特性的漂移情况。实验中,......
面对资源有限、能源紧缺的现实，开发新能源和可再生能源成为迫切任务。太阳能是清洁环保的可再生能源，利用半导体器件的光伏效应原理......
使用适当近似从理论上给出了共焦显微拉曼光谱仪的纵向仪器响应函数. 针对相对薄(几个μm)的样品(诸如半导体薄膜材料)给出了一个......
采用脉冲磁控溅射法制备氢化微晶硅薄膜，利用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜和四探针测试仪对薄膜结构和电学性能进行表征和......
利用13.56MHz射频等离子体增强化学气相沉积技术高速沉积非晶/微晶过渡区的微晶硅(μc-Si:H)薄膜.研究了沉积压力、射频功率、电极......
使用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜（沉积速度为1.2nm/s）,通过原子力显微镜研究了薄膜前期生长的粗糙化过程.按照标度理论获得......
本文采用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）技术高速沉积微晶硅薄膜。系统研究了射频功率、气体总流量、沉积气压、硅烷浓度等......
采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）法，在玻璃衬底上不同的氢稀释比下低温制备了微晶硅（μc-Si：H）薄膜。利用拉曼（Raman）散射谱研究显示......
相较于非晶硅(a-Si：H)薄膜,氢化微晶硅(μc-Si：H)薄膜由于良好的长波响应特性,高的载流子迁移率和高的光电稳定性等优点,在硅基薄膜......
采用拉曼光谱法研究了不同退火时间下的微晶硅薄膜应力。结果发现样品的应力梯度并不随着退火时间的增加而增大。而是存在最大值，这......
利用HW-MWECR CVD系统,用氢等离子体处理间隙生长堆积层表面技术,制备了一系列不同厚度的μc-Si：H薄膜.发现,当薄膜厚度在0.55μm以......
硅由于具有在地壳中储量丰富,无毒等优点,成为目前能量开发、利用和存储领域研究的热点材料。在对以薄膜叠层电池和纳米结构电池为......
能源危机和环境污染问题促进了太阳能光伏产业的快速发展,而降低成本、提高光电转化效率则是加快太阳能电池推广应用的重要手段。......
能源危机和环境污染已经成为当今世界各国经济发展面临的首要问题,因此,越来越多的国家开始转向开发利用可再生的清洁能源。太阳能......
采用射频等离子体增强化学气相沉积法（RF-PECVD）,在玻璃和硅衬底上以230—310Pa之间的沉积气压生长微晶硅（μc-Si：H）薄膜。利用拉曼光谱......
期刊
研究了用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)方法制备的不同沉积气压下的微晶硅薄膜样品.随着沉积气压的逐渐增大,样品的......
