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利用计算机技术采集信号并经平滑、滤波等处理,得到烃类局部氧化参数.选取烃类局部氧化物理参数(氧化诱导期、最高反应温度)来表达......
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采用硅的局部氧化技术以及湿法刻蚀技术,利用2.6μm的光刻掩模板在n型硅片上形成了栅极孔径为1μm的场发射阴极的栅极空腔阵列,实现了......
针对某电子产品的结构特点,通过设计实验方案和大量工艺试验验证,确定了局部氧化工艺绝缘方法、涂覆液类型和可剥漆涂覆参数。筛选......
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<正> 含氰废水的处理,早在60年代已开始,迄今已有20多种处理法.本文仅就一些主要方法介绍应用实例并作简要评述.一、处理方法及实......