激光直写光刻属于无掩模光刻的一种，是当今制作衍射光学元件的关键技术之一。为进一步促进激光直写光刻技术的发展，提高衍射光学元件......

本文通过对SU-82075负性光刻胶技术的研究，初步解决了厚胶工艺中易出现的胶的均匀性问题，并研究了厚胶曝光工艺。用EVG620型曝光机获......

V．Tech．公司开发了6、7代TFT-LCD生产线的不用大尺寸掩膜版的曝光机。该曝光设备只要设定基板第一层的图形之后，在不使用大尺寸掩膜版......

通过对Ma-P100正性厚胶光刻技术的研究，初步解决了厚胶工艺易出现的胶的均匀性问题，厚胶长时间曝光工艺，用普通曝光机获得了厚度为60......

随着彩色显示的快速发展,LCD的彩色化无可逆转。据市场调查机构的统计,到2010年,LCD彩色化比率将高达94%。在液晶面板生产商不断投......

不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改......

LCD液晶显示屏具有高分辨率、厚度薄、重量轻、低能耗、长寿命、无辐射的优点。随着窄边框LCD液晶显示屏的出现,使LCD液晶显示屏的......

光刻一直以来都是半导体制造的咽喉工艺。光刻设备的研制也是全世界科研的重点,传统的近紫外波长的光刻设备使用汞灯作为光源,维护......

曝光技术（夏普）关敦夫矢野耕三１前言曝光技术在大规模集成电路（ＬＳＩ）工艺中对提高集成度起到了关键作用。今天作为生产有源矩阵液晶显示器（ＡＭ－ＬＣＤ）的......

　曝光工艺是ＩＣ制造商生产０－１８μｍＩＣ的关键。目前已出现三种不同选择：（１）ＮＡ０－６或以下的步进扫描系统；（２）ＮＡ０－６或以下的步进机；（３）ＮＡ大约为０－６８的步进扫描系统。　　美国的......