紫外光刻相关论文
在生物组织中,细胞常常受到所在环境施加的力学和化学信号的影响。越来越多的证据表明,环境力学信号可能会导致染色质三维构象的变......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以......
自电致变色效应第一次被报道以来,在这几十年里,电致变色效应得到了很多的研究,很多电致变色材料被陆续发现和研究,各种各样的电致......
引言rn 波长248 nm的KrF准分子激光器广泛用于不同技术领域，例如不同材料的微加工、紫外光刻和打标等。提高激光器的平均功率或脉冲......
1986年德国教授W.Ehrfeld首先开发的LIGA技术(lithographic、 Galvanformug、Abformug)实现了深度X射线光刻、电铸成型和塑料铸模......
微小金结构在航空工业以及电子工业中应用广泛。UV-LIGA技术是一种低成本,大批量制造微小金属结构的方法,因此,使用这一技术可以大......
近年来，由于复合折射透镜具有独特的光学性能，已成为X射线光学领域内的一个重要研究方向，其研究成果广泛应用于第三代同步辐射光源中......
导电聚合物的发现对微电子、光电工业制造技术革新有着极其重要的影响。而构造三维微纳结构的导电聚合物图案,可以广泛应用于显示......
本文采用恒电流密度氧化法,控制电流密度,氧化时间,及氧化温度在不同电解液中制备了不同孔径高度有序的AAO模板。随着电流密度的增......
为研究基于紫外光刻加工技术的光刻胶模型形状误差与工艺参数的关系,利用正交实验法对正性光刻胶AZ9260进行了实验研究.引入田口方......
期刊
设计了一种基于多模干涉(MMI)耦合输入/输出结构的跑道型双微环串联谐振滤波器,并采用紫外光敏聚合物材料SU-8作波导芯层,聚合物CY......
作为应用于第三代同步辐射光源的一种重要X射线元件,复合折射透镜成为近年来X射线光学研究的热点之一。平面抛物形折射透镜是复合......
对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究．在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上，根据菲涅耳衍射理......
介绍了莫尔光栅制作的主要方法和进展.利用紫外光刻、离子束刻蚀技术制作自支撑金莫尔光栅,讨论了金膜厚度要求、电镀金膜质量和光......
介绍了一种新型的紫外光刻体系，它由包含低分子量PVP（K30）作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP（K90）／DAS组成。通过紫外光引发DAS......
通过简易的紫外光刻平版印刷技术,对无化学修饰的生物兼容性良好的天然牛白蛋白的水相光刻胶进行微图案化加工,获得了可用作微光栅......
本文设计了351nm紫外光条件下支持亚波长结构干涉光刻的光学透镜组，数值孔径达到0.46，该光学头理论最小光栅周期结构为400nm。研制了......
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种新型的无源MEMS惯性开关。针对高深宽比、细线宽微电铸用光刻胶模具制作过程中,由于SU-......
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种雷达用金属铜微通道散热器。针对使用高黏度SU-8胶制作高厚度胶膜时产生的胶厚不均匀问......
SU8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一.SU8光刻胶能够进行厚度达毫米的......
在高集成的射频微机电系统RF MEMS(Radio Frequency Micro Electro Mechanical System)器件的发展趋势下,三维集成工艺的研究越来......
以微机电系统(MEMS)微细加工技术为研究基础,对微针阵列模具的加工方法及微针阵列的制备展开研究。重点研究了硅的湿法刻蚀结合SU-......
基于光纤光栅(FBG)包层模式,制作了一种弯曲在线监测的全光纤传感器。传感器使用193 nm ArF准分子激光器,通过离轴刻栅的方式在15 ......
随着MEMS器件微型化和集成化的发展趋势,维持微真空器件内部的真空品质已经成为目前业界普遍关注的技术问题。薄膜吸气材料可以实......
研究了一种以SU-8光刻胶为结构材料的微悬臂结构。通过控制紫外光刻过程中的曝光剂量,仅仅使光刻胶的上部分发生交联,下部分的光照......
基于正负胶结合的UV-LIGA 技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器.针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均......
在微电子机械系统(MEMS)中,大高宽比微结构被广泛应用.由于紫外光衍射效应比较大,通过紫外光刻获得高精度的大高度微结构并不容易.......
UV-LIGA技术是制作大高宽比微电子机械(MEMS)的方法之一,而UV-LIGA技术的关键工艺之一为深度紫外光刻.由于紫外光衍射效应影响紫外......
电场诱导压印技术的关键在于能实现压印光刻胶的正向复形,对电场诱导模具的制备提出了较大的挑战。提出一种基于光刻、刻蚀和SU-8......
在微机械领域常需用到有一定厚度、高深宽比的微金属结构，准ＬＩＧＡ工艺是制作这种微结构的一种简易、方便的手段。准ＬＩＧＡ工艺的工艺过程与ＬＩＧＡ工艺......
随着微机电系统技术的不断发展,MEMS器件在一些工业领域逐渐得到应用。MEMS惯性开关作为一种惯性冲击检测传感器在航空、航天、运......
随着航空航天、显示照明、生物医疗等方面的不断发展,人们对周期微纳结构的要求日趋苛刻,需要同时满足大面积、高精度、图案复杂化......
采用传统紫外光刻技术与激光双光束干涉光刻技术相结合的方法,以及激光双光束干涉连续两次曝光的工艺方法,制备了具有多种形貌和周......
简述了氟化钙（CaF2）晶体的发展历史,总结其光学特性,介绍了氟化钙晶体的生长新工艺技术和发展。综述了氟化钙晶体在现代信息技术中的......
对应用于宽带光互连的光印刷电路板(OPCB)制备技术进行了研究。作为光互连系统的传输介质,我们研究了互连光波导的性能。基于紫外......
期刊
染料敏化太阳能电池价格相对低廉,制作工艺简单,拥有潜在的高光电转换效率,极有可能取代传统硅系太阳能电池,成为未来太阳能电池的......
微型光谱仪具有体积小、便于携带、使用简便等优点，在许多领域都具有广阔的应用前景，例如药物生产的实时监控与食品质量的快速分析等......
纳米压印技术是美国华裔科学家的Stephen Y. Chou教授于1995年提出的一种复制加工纳米尺度图案的技术。因其具有产品分辨率高,工艺......
采用紫外光刻技术对阳极氧化铝（AAO）模板进行图案化，再采用AAO模板物理浸润技术，以聚苯乙烯（PS）溶液浸润图案化的AAO模板，制得图案化的PS......
随着深紫外光刻技术的发展,透光范围宽、透过率高的CaF2晶体成了人们关注的焦点,其尺寸和质量得到了不断的提高。结合CaF2的基本性......
期刊
随着芯片特征尺寸的减小 ,光刻成像技术的不断提高 ,而关键尺寸 (ＣＤｓ)的缩小则产生了更为精确的套刻精度。这些套刻精度在已随着工作......
随着微机电系统的迅速发展，基于SU-8胶的UV-LIGA技术得到更加广泛的应用。本课题研究了SU-8胶紫外光刻理论和工艺实验，并对SU-8胶微......
介绍了一种制备金属可调谐光栅的新技术。首先采用紫外光刻技术将光栅结构制备至PDMS（聚二甲基硅氧烷）基底,并在其上蒸镀金属Cr层及A......
研究了衍射效应对SU-8胶紫外光刻尺寸精度的影响。根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型，预测微结构的尺寸，分析了光刻参数变化......
