极紫外光刻机相关论文
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精......
从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率,提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在等截面或......
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的精度、速度、加速度、动态特性及同步性能对于光刻图形精度和光刻机的产率都起着......
极紫外（EUV）光刻技术作为下一代光刻技术，面临着光学表面污染、硅片传输效率低等众多难题，为了开展上述技术研究，需要研发EUVL真空实验......
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的精度、速度、加速度、动态特性及同步性能对于光刻图形精度和光刻机的产率都起着......
在极紫外光刻系统中,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要......
满足极紫外(EUV)真空要求的动态气体锁是极紫外光刻机的重要部件。本文阐述了动态气体锁研究的必要性和国内外研究现状;首次提出动......
针对极紫外（EUV)光刻机工作过程中，多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究，讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法......
