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在室温条件下对钛铁矿进行了注入H2^＋离子实验，结合透射电镜观察，研究了钛铁矿还原过程中的微观机理．实验发现，注入H2^＋离子后，[^-110]方......
利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)及电子能量损失谱(EELS)对室温下注入氢离子的CeO2烧结体的显微组织结构和价态进行了原位观察和......
采用中频磁控溅射结合离子束混合技术在不锈钢基体上制备C-SiC涂层。对制备的涂层进行能量5 keV、剂量1×1018 ions/cm2的氢离......
为了更深入的了解GaAs经氢离子注入后的剥离特性，实验研究了GaAs晶片经6×10m／cm^2剂量氢离子以不同能量注入，再经过不同温度和不......
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本文对硅中注入质子(氢离子)所形成的缺陷进行了研究,发现注入氢的硅先经600℃处理较长时间后,再经高温处理可形成热稳定性很大的......
采用离子注入技术,可使栅氧化层的界面态密度从一般的10~(10)cm~(-2).eV~(-1)左右降到1×10~9cm~(-2).eV~(-1)以下.通过对比实验,......
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