氩离子束刻蚀相关论文
提出了一种制作128×128球冠型GaAs凹折射微透镜阵列新的方法&&曲率倒易法.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹......
忆阻器不仅具有低能耗、可擦写速度快、结构简单以及与CMOS工艺流程兼容等优点,而且能实现非易失性状态逻辑运算、类脑神经形态计......
该文从实验和理论两个方面对微光学阵列器件的设计方法、制作技术和光学性能测试进行了较为系统的研究.......
为了改善PtSiIRCCD器件的红外响应特性，需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光，本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微......
采用光刻和熔融成形法制备线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形，采用固化技术对其作重整化处理，采用氩离子束刻蚀有效地实现线列长方......
提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表......
利用光刻及氩离子束刻蚀制作 面阵硅场发射器件，采用扫描电子显微镜和表面探针等分析所制样品的表面微结构形貌，定性讨论了刻蚀用氩......
为了改善PtSiIRCCD器件的红外响应特性，需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光，本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微......
叙述了采用氩离子束刻蚀的方法制作线列长方形拱面石英微透镜阵列．所制单元石英微透镜底部的外形尺寸为（300×106）um2，平均冠高7．07......
光波导就是折射率高的区域由折射率低的区域包裹的结构。它可以把光限制在较小的区域传播以提高光密度，从而更好的利用非线性晶体的......
