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热丝化学气相沉积法(HFCVD)相关论文
采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜。所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2。用原子力显微镜(AFM)、X线衍射......
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SiCN薄膜
热丝化学气相沉积法(HFCVD)
原子力显微镜(AFM)
X线衍射谱(XRD)
X线光电子能谱(XPS)
SiCN thin film
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