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Si+/As+双离子注入SI-GaAs对注入层电激活均匀性改善的研究
研究了单(Si+)双(Si+/As+)离子注入半绝缘砷化镓(SI-GaAs)电激活的均匀性. 结果表明,LECSi-GaAs衬底中深电子陷阱能级(EL2)均匀性......
期刊
离子注入
半绝缘GaAs
电激活均匀性
EL2能级
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