在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD(直流电弧等离子体喷射化学气相沉积)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,在Mo的衬底上沉积出纳米金刚石......

该文将硬质合金刀具表面作不同的预处理，用直流电弧等离子体喷射ＣＶＤ法在其表面沉积金刚石薄膜。测试结果表明：金刚石薄膜与刀具表面有较......

研究了在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的方法中，工作气压、基片温度和甲烷浓度对金刚石薄膜生长速率和质量的影响，在优......

热导率是金刚石膜应用中的一项主要技术指标。不同成膜工艺条件下制备的金刚石膜其热导率相差很大。直流电弧等离子体喷射化学气相......

金刚石单晶具有优异的力学、电学、光学、热学、声学性能，具有广泛的用途。从本世纪初以来，CVD金刚石单晶的制备一直是国内外科学家......

直流电弧等离子体喷射法已经成功地制备了金刚石自支撑膜。但是在多晶金刚石膜内部存在着大量的黑色缺陷，这些缺陷的存在对于金刚石......

利用DCArcPlasmaJetCVD法制备搀杂氮的金刚石厚膜。研究了在反应气体CH4 /Ar/H2 中加入N2 对金刚石膜显微组织和力学性能的影响。......

表面纳米技术领域被认为是纳米技术最为关键和基础性的一翼。我国表面纳米技术的研究近期已取得重大突破，有望率先进入工业化应用阶......

用电镜、激光ROMAN谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响。结果显示：金刚石薄膜的生长速率随甲烷浓度、......

有 DC 弧血浆喷气准备的毫米厚度的一部自立的钻石电影被机械磨擦连续地变瘦。有不同厚度的钻石电影的取向和质量被 X 光检查衍射......

利用DC Arc Plasma Jet CVD法制备搀杂氮的金刚石厚膜.研究了在反应气体CH4/Ar/H2中加入N2对金刚石膜显微组织和力学性能的影响.在......

采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性，并往往导致......

研究了气体循环模式下的直流等离子体喷射CVD自支撑高质量金刚石厚膜高温氧化行为。结果表明，金刚石膜在大约650℃开始氧化，氧化速度......

为了研究工艺对CVD金刚石膜生长的影响,本文采用电镜、激光Raman谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响......

文章综述了以直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜的研究新进展,对电弧特性、金刚石晶体质量、力学性能、光学性能及热学性......

有 Zr 夹层的瞬间底层，也就是合成的底层，被采用在直接当前的弧血浆喷气化学药品在合成底层上扔的独立钻石电影 deposition.Freestan......

以H2、N2和CF4气体为前驱体,用直流电弧等离子体喷射设备在不同基底温度条件下于钼/金刚石过渡层基底上制备了氮化碳薄膜。利用扫......

直流电弧等离子体喷射法制备金刚石膜的过程中氩气主要起维持电弧放电作用,在一定程度上保证电弧放电的稳定性。本文利用自定义标......

金刚石膜是一种性能极其优异的多用途功能材料,在机械加工、航空航天、微电子制造等众多领域具有广泛的应用前景。但金刚石膜在制......

CVD金刚石膜具有优异的光学、热学和力学性能成为理想的长波红外窗口材料。而在作为高速飞行器红外窗口使用时,窗口材料驻点温度瞬......

掺硼金刚石薄膜电极拥有的宽电势窗、耐腐蚀、耐中毒、化学稳定性高，同时导电水平高等物理和化学性质，使得它在电化学以及其他领域得......

综述了北京科技大学在直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜沉积系统研制和改进及大面积高质量(包括光学级)金刚石自支撑膜沉积的研究......