纳米金刚石薄膜相关论文
作为新型碳材料,石墨烯具有许多优异的力学与电化学性能。但这些性能容易受到石墨烯放置状态与基底的影响。因此石墨烯的放置状态......
纳米金刚石（NCD）薄膜因其优异的性能,在力学、电学、电化学等领域具有广阔的应用前景。金刚石禁带宽度达5.47 eV,可应用于高温等极端......
本文采用热丝化学气相沉积法，研究了氮气、氩气、氦气以及氩氮混合气体对纳米金刚石(Nano-crystalline Diamond,NCD)薄膜的生长速率......
超细纳米金刚石（UNCD）薄膜的制备现已引起了科学技术界的广泛关注。由于其具有优异的物化性能、电学性能、光学性能、机械性能、良好......
纳米金刚石(Nano-crystalline diamond, NCD)、超纳米金刚石(Ultranano-crystalline diamond, UNCD)薄膜具有与微米金刚石相似的较......
X射线光刻掩模技术(XRL)被认为是实现32nm技术节点的下一代光刻技术(NGL)之一。作为X射线光刻掩模材料的候选者之一，金刚石薄膜的许......
高质量、高载流子迁移率和低电阻率的n型金刚石薄膜的制备是限制金刚石在电子工业中应用的瓶颈问题。本文采用热丝化学气相沉积法（H......
金刚石压力传感器的制作是高温传感器件的一个重要研究方向,具有很大的市场潜力.该文围绕金刚石薄膜高温压力传感器的制作这一主题......
本工作采用脉冲激光沉积法(PLD)制备出纳米金刚石薄膜(NCD)和类金刚石薄膜(DLC),初步研究了薄膜沉积时的参数:衬底温度、激光能量......
光学元件的抛光通常采用氧化铈粉。目前，氧化铈抛光粉的粒度通常为微米量级，限制了光学元件的抛光精度，而纳米抛光粉仍处于研制阶段。......
场致发射是一种新型显示技术,具有良好应用前景,场发射显示器的核心内容是场发射阴极材料,纳米金刚石由于低表面粗糙度、低场发射......
表面纳米技术领域被认为是纳米技术最为关键和基础性的一翼。我国表面纳米技术的研究近期已取得重大突破，有望率先进入工业化应用阶......
纳米金刚石薄膜因具有纳米材料和金刚石的双重性质且易于制备,作为场发射材料在平板显示领域拥有潜在的应用价值,而引起人们的极大......
采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平......
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作......
用热丝化学气相(HFCVD)法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观测薄膜......
报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板上制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺,在不同沉积条件下研究......
在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压，采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜。采用显微Raman高分......
以CH4和H2为反应气,采用微波等离子体增强化学气相沉积方法在直径为10 cm的硅原片上制备纳米金刚石薄膜。用X射线衍射仪、拉曼光谱......
采用微波等离子体化学气相沉积法,在医用钛合金上沉积金刚石薄膜,其晶粒尺寸40 nm左右,表面粗糙度Ra=39 nm.在SiC球为摩擦副的干摩......
用热丝CVD方法制备了常规和纳米金刚石薄膜.测量了其电阻率、介电常数和损耗角正切值.实验结果表明,常规金刚石薄膜的电导率、损耗......
<正> 该项目采用高功率准分子激光照射固体碳靶,产生高能等离子体,在室温条件下快速沉积高品质大面积均匀纳米金刚石膜。经过三年......
采用微波等离子体化学气相沉积法，利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜。表征结果显示，制......
采用双偏压辅助热丝-等离子增强化学沉积系统制备了纳米金刚石薄膜。采用AFM、SEM、Raman等考察了不同工艺条件对纳米金刚石薄膜形......
采用电子辅助热丝化学气相沉积工艺，在1kPa反应气压和施加不同的偏流条件下，沉积了纳米金刚石薄膜．用X射线衍射，场发射扫描电镜和半导......
本文对纳米金刚石薄膜的研究现状和发展趋势进行了综合评述,从纳米金刚石薄膜的沉积原理和工艺以及纳米效应表征等方面分析了国内......
在热丝化学气相沉积体系中，系统研究了气压对CH4／H2／Ar气氛中纳米金刚石薄膜生长的影响。研究发现，体系气压对纳米金刚石的生长有很大......
本文采用电子辅助增强热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,CH4/H2、CH4/H2/Ar气体和不同比例的四种气氛制备了纳米金刚石薄膜,利用Raman......
采用微波等离子体化学气相沉积技术，通过在甲烷和氢气的混合反应气源中通入不同浓度的氮气，合成了氮掺杂的纳米金刚石薄膜。表征结果......
纳米金刚石薄膜的优异性能吸引了众多学者的关注，同时也成为CVD金刚石薄膜研究领域的新热点。文章对国内外的纳米金刚石膜制备的研......
回 回 产卜爹仇贱回——回 日E回。”。回祖 一回“。回干 肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》 砧叫]们......
利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法分别在CH4／H2／Ar体系、CH4／H2／O2体系和C2H5OH／H2体系中进行纳米金刚石（NCD）薄膜的制备研究。采用原......
通过介绍不同气源和相关工艺参数(温度、功率等)对MPCVD法制备纳米金刚石的影响,并对部分学者的研究成果进行简述。然后简要概括了......
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法与离子注入法制备硼掺杂纳米金刚石(BDND)薄膜,并对薄膜进行真空退火处理,系统研究退火温度、掺杂......
CVD金刚石薄膜的优异性能使得其在众多领域都受到极大重视,国内外研究学者对金刚石薄膜的制备方法也进行大量研究。在众多制备金刚......
利用微波等离子体气相沉积法,以氢气、氩气、甲烷为气源,在20~26 k Pa,碳源浓度0.3%~1%条件下,通过改变气压与碳源浓度来制备纳米......
以纳米金刚石薄膜的应用为主线,讨论了它在机械、光学、声学、电学等应用领域的优势,以实例分析、证明了其在各领域中所展现出的优......
纳米金刚石薄膜具有金刚石薄膜和纳米材料的双重优异特性,而在制备工艺上又与金刚石薄膜有所不同,通过与金刚石作比较,综述了纳米......
采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜 .用扫......
采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积(RF-HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜.研究了衬底温度、反应气......
探索了原子氢在各类制备条件下对纳米金刚石薄膜生长所起的作用,指出贫氢环境并不是纳米金刚石薄膜制备的必备条件,原子氢与Ar在贫......
本项研究主要针对无铅无卤素的FCBGA(Flip Chip Ball Grid Array)封装产品在生产过程中湿气的吸取和解吸行为进行了探讨。分析了由......
在石英衬底上沉积纳米金刚石（NCD）薄膜,并进行1 ×10^14 cm^-2剂量的磷离子注入,再在800、900℃下低真空退火30分钟.对薄膜的微......
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）法,以CH4/H2混合物气体为气源,通过改变沉积气压、甲烷浓度、添加不同浓度的氩气及施加负脉冲偏压,在（10......
用化学气相沉积(CVD)的方法制备出的金刚石薄膜具有很高的硬度和优异的耐磨能力,但在干摩擦过程中,金刚石薄膜经常造成摩擦对偶的......
采用微波等离子体化学气相沉积法，以氢气稀释的乙硼烷为硼源进行了纳米金刚石（NCD）薄膜的生长过程掺硼，研究了基片温度对掺硼NCD薄膜晶......
纳米金刚石薄膜具有众多优异性能 ,在众多领域有广泛的应用。本文在详细介绍纳米金刚石薄膜合成的基础上 ,着重阐述了对纳米金刚石......
纳米金刚石具有比普通金刚石更优越的性能,目前有诸多学者致力于纳米金刚石的研究。化学气相沉积法(CVD)制备纳米金刚石是近年来比......
