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硅特性相关论文
用CHF3进行SiO2反应离子腐蚀后Si表面的电特性
用CHF_3反应离子腐蚀除去SiO_2层之后对Si表面的电特性进行了全面的研究。本研究采用了金属-半导体接触结构,并包括金属-半导体接......
期刊
CHF3
SIO2
反应离子腐蚀
硅特性
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