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硅粉末相关论文

腔室长时间使用造成的工艺漂移对微晶硅薄膜性质的影响

考查了等离子体增强化学气相沉积（PECVD）高压制备微晶硅（μc-Si：H）薄膜过程中,系统长时间使用造成的微晶硅薄膜特性的漂移情况。实验中,......

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微晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积工艺漂移硅粉末 mierocrystalline silicon thin film plasma enhanced

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