离子共注入相关论文
高质量低电阻率n型金刚石薄膜的制备是世界性难题,是制约金刚石在电子工业中应用的重要因素。本文采用硼氧离子共注入掺杂金刚石薄......
采用改进了的MEVVA源阴极对H13钢进行了C+Mo共注入,并做了X射线衍射分析、电化学测量和表面形貌分析.实验结果表明,C+Mo共注入后H1......