等离子化学气相沉积相关论文
阐述利用等离子化学气相沉积制备了非晶硅材料,然后在不同浓度的氢气气氛下进行了等离子退火处理,并对其折射率,消光系数和傅立叶......
近年来,常压介质阻挡放电等离子薄膜气相沉积的研究逐渐兴起,是继真空等离子体气相沉积薄膜之后,很引人关注的一种制备薄膜的方法,......
本文给出用等离子化学气相沉积(PCVD)技术制备的SnO2/Fe2O3 双层薄膜结构的俄歇谱(AES)剖面分析、透射电镜(TEM)断面形貌和扫描电......
<正>沈阳拓荆科技有限公司是国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的12英寸PECVD设备企业。公司自2010年成立至今,已申请专利......
<正> 0 前言 日本“东方工程公司”于1986年独自开发了能批量生产的等离子CVD(PCVD)设备,广泛应用于各种模具的表面处理。利用PCVD......
目前,人们对薄膜磁性能的认识已达到了一个新的水平,这除了人们对二元系物体的自发磁化问题很感兴趣以外,主要还是由于磁性薄膜已......
控制碳纳米管的取向生长，制备各种有序阵列结构的碳纳米管薄膜是实现碳纳米管实际应用的重要前提，也是实现碳纳米管实际应用的主要难......
在TFT-LCD制程中,采用了等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhancedchemical vapor deposition,PECVD)生长氮化硅薄膜,采用分步......
高性能光学合成石英玻璃因其优异的综合性能而成为激光核技术、航空航天、半导体集成电路、光电器件和精密仪器等高端光电子技术领......
