紫外光刻胶相关论文
随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。......
一、简介光刻工艺在半导体器件和集成电路的制造中占有重要的地位。目前,半导体器件和集成电路取得这样迅速的发展,是和光刻工艺......
通过线聚焦将自滤波振荡行波放大后的铜激光在ＢＢＯ晶体中信频，当基频光功率为５．４Ｗ时，倍频效率达１４．４％。用钢激光倍频光进行接触式光刻，刻线分辨率优......
通过两种路线,制备了一种新的聚合物树脂材料聚N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺共N-苯基甲基丙烯酰胺(poly-HPMI-co-PMA)。结果表明该聚......
<正>我们设计并开发了一种基于硫醇点击化学的新型紫外光刻胶,并成功将其应用于纳米压印中。该紫外光刻胶主要成分包括含巯基的低......
