光致抗蚀剂相关论文
一、引言随着大规模集成电路(LSI)向着超大规模集成电路(VLSI)发展,即要求每一基片上集成十万个元件以上、一万门电路以上,对图象......
采用Kaufman离子源刻蚀微透镜列阵并采用实时检测系统对刻蚀深度进行了控制。提出了测量微透镜列阵衍射效率的一种方法。对测量误......
公开号 ＣＮ１２０４６９８Ａ 申请人 国际商业机器公司 地址 美国纽约州 公开了气相淀积的ＢＡＲＣ和制备基于非晶碳薄膜的可调且可去除的抗反射涂......
提出了一种制作 12 8× 12 8球冠型GaAs凹折射微透镜阵列新的方法———曲率倒易法。扫描电子显微镜(SEM )显示微透镜阵列为表面轮......
由肉桂叉丙二酸(或酯)与乙二醇合成的聚酯胶在微电子工业上作为光致抗蚀剂使用时,最突出的优点是分辨率高、光敏性好,主要缺点是......
介绍了喷雾式涂胶(Spray Coating)的多种新应用.在形貌起伏很大的表面均匀地涂布光刻胶(抗蚀剂)是一项非常有挑战性的工作,喷雾式......
(上接本刊第8期)6.4.2市场简况与开发前景印制电路板是安装电子器元件的载体,而电子信息工业发展中,印制电路板行业已成为最活跃的......
日本日立制作所所属中央研究所发现了利用电子束全息照相术,以5毫微米的分辨率观测磁场的方法。用于观测的试样是厚度为50毫微米......
一、硫硒碲化合物材料的特点元素周期表上以硒、碲为代表的ⅥB的硫硒碲化合物是与石英系玻璃并列的无机玻璃的代表.它们在热力学上......
一、简介光刻工艺在半导体器件和集成电路的制造中占有重要的地位。目前,半导体器件和集成电路取得这样迅速的发展,是和光刻工艺......
为了替换湿法蚀刻技术,因而等离子蚀刻技术受到注意。最初,根据圆筒形等离子蚀刻装置,剥掉光致抗蚀剂,活跃地进行丁关于多晶硅、......
按照与 Lambda Photometrics 公司的共同开发计划,第一个产生标线片的激光驱动的微电子线路图形发生器在英国费兰提公司试验成功......
据英国 New Scientist 1993年2月13日报道,根据美国电报电话公司贝尔实验室发展的一种技术,可以更为廉价且方便地制成最先进的硅......
本文提出发展蚀刻二元元件的工艺,其中最重要的是选择适当的蚀速比,它是制作具有连续厚度分布的浮雕型光刻全息图的关键,文中给出......
本文研究了将光致抗蚀剂衍射光学元件的连续沟槽蚀刻到基底层上的技术。实验分析了基底层沟槽与原版沟槽的形状和深度之间的关系。......
本文利用光量热差示扫描量热仪UV-DSC对丙烯酸酯光固化动力学进行了研究，分别考察了光引发剂、齐聚物、活性单体、填料SiO2以及温度......
光化学加工是一种精密的表面加工技术,在许多精细加工过程中获得应用.该文对光化学刻蚀技术在特种材料(碳化钨硬质合金)精细加工方......
随着电子产品小型化、液晶显示电子产品高速发展,新一代封装技术COF(Chip On Flex或Chip On Film)的发展也随之蓬勃起来,它已经成......
采用含硅量较高(23wt%)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度.结果还表明,这种......
对于带有微型结构模型制件的注塑成型工艺,采用类LIGA精微注塑成型是一种低成本高成效的途径.详细阐述了制备模制件骨架的类LIGA工......
当前,印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域,而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品,由于......
为了在一个封装内集成更高层次的功能,设计人员采用了创造性的策略,即将多芯片规格、类型乃至材料合并成单个组件.连接不同的芯片......
本文合成了一种以硫杂蒽酮为基核的光产酸剂,该光产酸剂对UVA段紫外光敏感,光解可以产生超强酸,且在365、385、395 nm LED光源下具......
研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机......
研究了高支化碱溶性感光聚合物的碱溶性、感光性及其光致抗蚀剂的成像显影性能.研究发现高支化碱溶性感光聚合物酸值越大,图像越清......
由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂。在玻璃片上成膜后硬度可达......
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光......
论述了蔗糖苯甲酸酯在食品及其包装材料、光电记录介质、微电路制作、液晶显示光学补偿膜、热转印和高分子合成材料等中的应用。......
用过氧化氢氧化烯烃得到顺式邻环己二醇,继而和对甲苯磺酰氯反应得到两种1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯.以溴酚兰作指示剂,用......
综述了用于化学增幅型光致抗蚀剂的光产酸剂及机理，对于几种常用的离子型和非离子型光产酸剂分别进行了阐述，并对其特性和应用做了简......
研究了（甲基）丙烯酸酯各组份对成膜树脂及抗蚀干膜性能的影响，并就曝光时间、光敏引发剂品种、活性单体对干膜性能的影响也进行了讨论......
本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了......
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的......
以二苯亚砜为起始反应物，通过改进反应溶剂，首先合成了溴化三苯基硫鎓盐，大大缩短了反应时间，提高了该盐的反应收率．再运用银盐置换法，合......
设计并合成了一种对高压汞灯发射光谱中的h-线（405nm）敏感的新型光致产碱剂（PBG）—N-{[（5-哌啶-2-硝基苄基）氧]-羰基}-2，6-二甲基哌啶（PNCD......
提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用......
高亮度高分辨小屏面CDT的黑底制作常见的不良的原因分析及应采取的对策;它有别于一般C DT黑底制作.......
溴酚兰水溶液的紫外吸收会随着体系中含酸的量发生变化，在440nm吸收峰处一定浓度范围内溴酚兰水溶液的吸光度与溶液中酸浓度成正比，......
光致抗蚀剂是制作超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路产业对集成度要求的不断提高,对于光致抗蚀剂的研究也不断深入.......
降低多层板成本和厚度；干膜光致抗蚀剂废水处理考虑；多层LCP封装中埋置有源元件；选择波峰焊DoE开发有铅和无铅安装的可制造性设计指南......
硫鎓盐类光产酸剂因其较高的产酸效率和好的热稳定性而广泛应用于化学增幅光致抗蚀剂中。本论文选择不同的酚化合物为原料,使之与......
以1,2,4-苯三甲酸酐、环氧氯丙烷和光敏剂1173合成了分子内带有光敏单元的高支化碱溶性聚酯,聚合反应转化率在1 h内可达90%以上;以......
