用快速热处理对单面抛光硅片进行初始热氧化,800℃下在晶硅基表面制备出15,30和60 min三个时间段的超薄氧化硅层。采用角分辨X射线......

磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO......

应用空心阴极离子镀（ＨＣＤ）技术在玻璃基片上镀一层均匀纯Ｃｒ薄膜．用角分辨ＸＰＳ（ＡＲＸＰＳ）方法对Ｃｒ薄膜在Ｔ＝３００Ｋ，ｐ＝１．３×１０５Ｐａ条件下的氧化层厚度进行测定，数据用最小二乘法......

用角分辨ＸＰＳ（Ａｎｇｌｅ－ｒｅｓｏｌｖｅｄＸＰＳ）研究研究了ＨＳ（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨ（Ｉ）ＨＳ（ＣＨ２）３ＯＣ６Ｈ４Ｎ＝ＮＣ６Ｈ４（ＣＨ２）７ＣＨ３（ＩＩ）和ＨＳ（ＣＨ２）６ＨＳ（Ⅲ）３种分子在Ａｕ膜表面制备的自组装单分子层，得出了（Ｉ）中Ｓ原子，（Ⅱ）中Ｓ，Ｎ原子距膜表面的垂直距离，并结合构象分析确定了分子的......