负性化学放大胶相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

负性化学放大胶相关论文

采用移相掩模技术制作深亚微米“T”型栅

介绍了在GaAs器件制作中,如何提高光刻细线条加工能力、制作深亚微米“T”型栅的工艺技术。该技术采用投影光刻和负性化学放大光刻......

期刊

深紫外光刻负性化学放大胶 T型栅移相掩模技术分辨率增强技术砷化镓PHEMT

负性化学放大胶的光刻模型及模拟

在Ferguson的负性化学放大胶(CAR)后烘反应动力学模型基础上,增加了后烘过程中光致酸扩散模型,通过后烘模型的简化,得到了简化的后......

期刊

光刻模拟负性化学放大胶后烘模型

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