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边缘感应势垒降低相关论文
高k栅介质MOS器件的特性模拟与实验研究
随着半导体工艺技术的不断进步,金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的特征尺寸也在不断的减小。当传统的SiO2栅介质层厚度减小到几......
学位
金属氧化物半导体场效应晶体管
高k栅介质
边缘感应势垒降低
关态漏电流
阈值电压
原子层淀积
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