近场光刻相关论文
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳......
传统光学引入了远场衍射的尺度极限。自从提出了近场光学技术以来 ,由于近场扫描光学显微镜 (NSOM)系统的复杂性而使得近扬的引入......
光刻技术长期以来一直是微米纳米尺度加工制造的“卡脖子”技术,特别是在半导体工业中。在过去的几十年里,光刻技术已经取得了巨大......
制造集成电路的关键要求,是对特征尺寸和缺陷的控制。但是,由于光的衍射行为的限制,传统光学成像的分辨力,大约只有所使用光波长的......
