纳米光刻相关论文
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基......
美国、日本、德国等发达国家对纳米探测、纳米光刻技术十分重视，纷纷投入了大量的人力物力进行研究开发，已经取得了比较好的研究成果......
采用含硅量较高(23wt%)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度.结果还表明,这种......
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳......
重离子束轰击聚碳酸酯后,对样品进行陈化和紫外线照射敏化,在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜.利用电化学沉积技术在核孔膜中......
运用标量光学理论, 研究了纳米加工中的基模高斯光束轴向相干叠加光场的三维强度分布特征,导出了高斯驻波场的光强分布表达式.在此......
<正>2001040102纳米光刻技术[中]/罗先刚…//物理.-2000,29(6).-358—363,3502001040103用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研......
超分辨近场结构(Super-RENS)是在传统的超分辨光盘技术和近场光学的基础上发展起来的新技术.介绍了超分辨近场结构的基本原理及其......
摘 要:基于电子束直写技术在纳米尺度刻蚀的标准过程,探索适用于单晶样品的刻蚀工艺,在微米尺度上建立一套方案,给出各步骤条件参......
为了给实际的纳米光刻对准工作提供理论研究基础，主要分析推导了莫尔条纹复振幅以及光强的空间分布规律。在理论分析的基础上通过仿......
纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义。分子尺寸为０．７纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯（主要是Ｃ６０），可以作为电子束抗......
推导了基于衰减全内反射结构的表面等离子体干涉光刻磁场强度分布的解析表达式,讨论了该光刻结构的最优化条件.当激发光为325 nm激......
具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。通过配备缩小投影透镜、掩模承片台、基片工作台......
介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干......
随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路(IC)工艺显著......
表面等离激元(Surface Plasmons,简称SPs),是入射电磁波与金属表面的自由电子共振形成的一种表面电磁模。由于其隐失场的特性,SPs......
讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模......
在纳米光刻中，采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制，发生双光栅......
扫描探针显微镜技术(Scanning probe microscopy, SPM)的出现,使对表面形貌特征的研究深入到了原子尺度。这项技术已经广泛应用在......
本论文推导了柱坐标系下曲面金属-电介质多层复合结构的等效介质理论和色散方程,分析了曲面金属-电介质多层复合结构实现超分辨效......
表面等离子体激元在沿介质分界面的传播方向上衰减，在垂直界面方向上场表现为消逝场的形式，一般情况下束缚在表面的电磁波在金属中衰......
本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光......
表面增强拉曼散射(surface enhanced Raman scattering,SERS)是通过吸附在粗糙金属表面或金属纳米结构上的分子与金属表面发生的等......
纳米光子学已经对人们的日常生活产生了重要影响,并且纳米光子学器件产品有强大的市场需求,因此其研究结果可以很快转化为商品。文......
电子束光刻技术是目前发展最完善的纳米光刻技术之一,其具有超高分辨率、操作灵活、不需要掩模以及可以制作各种纳米结构的优点使......
光刻技术（lithography）是微纳结构制备的关键技术之一.受限于光的衍射极限,传统光刻方法进一步缩小特征尺寸变得越来越难.表面等离子......
石墨烯作为最薄的单原子层二维材料,其极高的载流子迁移率、热导率以及优越的光学和力学特性,使其成为制备柔性、透明高性能场效应......
局域表面等离子体(Local Surface Plasmon,LSP)纳米光刻技术以简单的系统结构、灵活的刻写方式、无需掩模以及超越衍射极限的分辨......
随着微纳科学的蓬勃发展，现代科学和技术对于器件的微型化、集成化要求越来越高，高精度微纳器件的精细加工技术越来越受到人们的关注......
光刻法是当前半导体元器件加工业应用最为广泛的一项技术。随着大规模集成电路以及微结构光子学元器件的迅速发展,对光刻法的精度......
光刻技术是当前半导体元器件加工业应用最为广泛的一项技术。随着大规模集成电路和微结构光子学元器件的迅速发展,对光刻技术的精......
纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重......
对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等，对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发......
