金属有机物化学汽相淀积相关论文
本文研究了利用金属有机物化学汽相淀积系统(MOCVD)生长高质量不同Al组分AlxGa1-xN薄膜(0.13<x<0.8).扫面电子显微镜(SEM)照片表明生......
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为了解决材料的界面平整度,改善材料的晶体质量,在Ⅲ-Ⅴ族氮化物(InGaN)材料的生长过程中,加入了Al掺杂剂。实验发现,InGaN材料的双晶衍......
利用金属有机物化学汽相淀积(MOCVD)一次外延生长了含有2个有源区的隧道带间级联双波长可见光半导体激光器(LD)材料.其隧道结为GaA......
生长短周期AlGaAs/GaAs超晶格,并通过双晶X射线衍射谱,对MOCVD超薄层AlGaAs、GaAs的生长进行了研究。从衍射谱卫星峰的级数及Pendellosong干涉条纹的出现,定性地对晶格结构及界......
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报道了在光辐射加热低压MOCVD(RTP/LP-MOCVD)系统上,用Si衬底成功生长了GaN外延薄膜。利用XRD、拉曼光谱、霍耳测量及室温光致发光谱对外延薄膜进行了表征,初步的......
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