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金属栅材料相关论文
面向产业需求的21世纪微电子技术的发展(下)
2.1.2新工艺在新器件制备工艺技术方面,超浅结工艺、沟道掺杂工程是器件进入亚100nm领域后需要采用的新工艺技术.......
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微电子技术
沟道掺杂
超浅结工艺
金属栅材料
光刻技术
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