光刻技术相关论文
当今世界离不开信息产业，信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术，即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。......
以专利家族为研究视角,阐述技术路径动态演化过程中的路径依赖。专利家族自引会对技术主路径造成干扰,通过对主路径进行调整,提出......
经过数亿年的进化,节肢类昆虫已经进化出具有优越成像性能的复眼。这类眼睛具有密排的小眼均匀分布在一个弯曲的宏观眼球表面。这......
分布反馈（DFB）半导体激光器因其光谱线宽窄、稳定性好在多领域得到广泛应用。通过将光栅制作于器件表面,避免了二次外延工艺,减少了D......
正弦结构光场普遍应用于精密光学的三维测量,其正弦性直接或间接影响三维测量的精度。根据正弦条纹的周期性和对称性等几何特征,以......
研究了多层微图案的成像特性,将基于光刻技术制作的微米级和高透光微图案附着在透明玻璃基板上,这种带有图案的玻璃基板堆叠约50层......
This work has demonstrated that with silver superlens, the resolution of conventional optical lithography can be improve......
提出一个软Ｘ射线投影光刻、缩比为６１、由两非球面镜构成的光学系统。该系统在波长为１３ｎｍ时，可获得３０ｍｍ的平像场和优于０．１μｍ的光刻线条分辨率，其最......
阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算......
本文针对目前亚半微米分步重复投影光刻机四极／环形离轴倾斜照明能量利用率低的缺点，设计了一种二元光学元件应用于离轴倾斜照明的系......
日前,德州仪器发布了45nm半导体制造工艺。TI在45nm工艺中采用了SmartReflex(TM)电源与性能管理技术,将智能化的自适应硅芯片、电......
文中简要介绍了集成电路的最新发展状况,重点介绍了IP核与SOC(片上系统)设计的基本概念、应用领域、技术难点和存在问题,分析了我......
和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和......
为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备......
调焦调平测量系统(FLMS),实时测量硅片曝光视场区域与投影物镜焦面的相对位姿,其测量准确度影响光刻机曝光成像质量。调焦调平测量......
摘 要：集成电路的发展史就是微电子技术生成史，从晶体管到微处理器和光刻技术等,集成电路技术以尺寸缩小、集成度提高为发展路径,必......
极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术,高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计......
极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22nrll及其以下节点的下一代光刻技术。在曝光过程中，EUVL物镜的每一面反射镜吸收35％～40％的入射极......
随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是......
结合单晶硅各向异性腐蚀和倾斜光刻技术,在14°斜切(110)单晶硅片上成功制作出90°顶角的中阶梯光栅。在1500~1600nm波段对其进行......
设计并制作了一种新型分布反馈(DFB)光栅激光二极管结构。采用传输矩阵法模拟得到了不同光栅耦合因子、不同结构下随机相位对归一......
介绍了碳纳米管(CNTs)/聚合物复合材料分散性、定向排布和组装方面的研究进展,并利用双光子聚合(TPP)激光直写技术,实现了多壁碳纳......
由于工业生产、环境监测等领域对气体传感器的要求越来越高,因此,对气体传感器的研究也愈显重要。碳纳米管凭借其独特的物理、化学......
石墨烯材料自2004年被发现以来,凭借其特殊的结构及优异的性能成为科学研究领域的热点材料。超高的透明度,优异的导电性及良好的机......
近年来,有学者发现纳米裂纹可用于制作纳米尺度图形,并应用于众多领域。例如,制作由柔性聚合物基底和带有纳米裂纹的金属薄膜构成......
本文描述了用硅的各向异性择优选择腐蚀与金属剥离技术相结合,研制软 x 射线光刻用的金-硅掩模的基本实验结果。
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对于硅片来说,当在其上制作出集成电路芯片以前,一面要在硅片上复盖各种物质,一面将根据需要再度分步清除。作为复盖在硅片上的物......
美国海军研究实验室正寻求能制作0.25μm设计标准集成电路的X射线光刻技术的建议。第二阶段的甚高速集成电路已把特征尺寸减小到0......
本文报告的是利用准分子激光诱导湿刻和光刻技术相结合的方法,实现了对GaAs的图形转换。发现由GaAs表面的金膜、水溶液和GaAs构成......
本文以KLA－221型自动掩模缺陷检查系统硬件资源为研究工具。详尽地描述了ULSI掩模缺陷检查的实际意义、缺陷检查的原理、检查模式。......
简介了光刻技术及其国内外发展现状,分析了我国光刻技术面临的挑战,从光刻胶、光刻机、政策和人才等4个方面提出了解决思路.......
随着纳米技术的飞速发展，小型化和微型化也已成为艺术创作的一种时尚。以雕塑为例，英国当代微雕大师威拉德借助显微镜，在针眼里成功雕......
表面增强拉曼散射(Surface Enhanced Raman Scattering,SERS)技术,相对于传统的拉曼光谱具有选择性好、前处理简单和抗干扰能力强......
期刊
光刻技术是当前微电子设备产业的关键技术,促进了信息时代的发展.关于光刻技术市场和技术的竞争正在展开,大量的开发和研发资金被......
随着科学技术进步,这些年我国光刻技术迅速发展,广泛应用于集成电路生产中,已经具备相对完善的光刻技术.相应不久的将来光刻技术会......
光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统......
以提高光刻机应用性能为目的,提出了一种高性能硅片曝光场分布优化算法。由芯片尺寸计算得到最佳曝光场尺寸,使其最接近于光刻机提......
纳米结构的构造在整个纳米科技中有着重要的意义,可以说,纳米技术的成功主要依赖于在纳米尺度范围内合理地排列功能性材料。传统的......
