钨涂层相关论文
钨具有良好的导热性和高熔点、低溅射率、较低的氢同位素吸收性等优点,被认为是最具有前景的面向等离子体材料。然而钨由于硬度和......
面向等离子材料（Plasma Facing Materials,PFMs）的研制是可控核聚变的研究中非常重要的问题。钨材料由于其高熔点、高热导率、低蒸气......
钨被认为是最有前途的聚变堆面向等离子体候选材料。但是钨的本征脆性及再结晶和辐照脆化使其在应用中面临着一系列问题,对纯钨粉......
大气等离子体喷涂(APS)是一种沉积效率高,经济便捷的涂层技术,可以一步解决面向等离子体材料钨的制备及其与热沉铜的连接问题。但......
为了改善金刚石颗粒与基体铝之间的界面结合状态,本文采用磁控溅射的方法在金刚石颗粒表面镀覆一层金属W,通过控制磁控溅射的时间......
钨由于高熔点、低溅射率等优点而被广泛的认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料。然而考虑到等离子体约束和边界气体再循环......
利用等离子体喷涂技术在铜合金基体上制备1mm的钨涂层,并对大气和真空等离子体喷涂钨涂层性能进行比较。结果表明,真空喷涂钨涂层......
对铜基体上真空等离子体喷涂1mm的钨涂层进行了分析研究，主要包括微观结构、热力学属性以及成分分析。结果显示，钨涂层气孔率仅为7．6％，......
采用CVD(Chemical Vapor Deposition)法沉积的钨涂层有[100]/[111]/[110]择优取向.择优取向主要受气体组分、流动速度、温度等因素......
羰基钨是金属钨与羰基所形成的配合物,它能在较低的温度下挥发和解离,通过控制羰基钨的热解方式、解离时间、气氛等可以制备出各种......
用低压等离子喷涂技术在铜基体上制备出厚度大于1mm的铜钨梯度钨涂层，对钨涂层性能研究结果表明，采用铜钨梯度方法可以使热膨胀系数......
金属钨及含钨涂层具有优良的性能，如高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和较低的热膨胀系数。在多个领域被广泛应用，金属钨及含钨涂层......
利用SEM、TEM及EDS等分析技术,显示了Mo-3Nb合金单晶基体与其表面W单晶涂层界面的显微结构形貌.观察到了厚度约为10μm的互扩散层,......
采用真空等离子体喷涂(VPS)技术制备出厚度超过0.8 mm的金属钨涂层,并对涂层进行了高温热处理。结果显示:金属钨涂层主要呈层状结......
采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉......
采用等离子喷涂工艺在炭/炭复合材料表面喷涂成型了0.8～1mm厚的钨涂层和含有0.03～0.08mm钽中间涂层的钨涂层.SEM和金相显微镜分析表......
金属钨属于难熔金属,具有高的强度和硬度,同时具有良好的化学稳定性,不易受到腐蚀,但其昂贵的价格及难加工特性限制了其应用,因此,......
采用化学气相沉积方法在钼基体上制备了具有[110]择优取向的W涂层，采用SEM、XRD、EBSD方法分析了涂层性能，研究表明涂层致密，法向偏离......
爆炸喷涂技术是材料表面加工领域的研究热点。总结了现有爆炸喷涂技术,并在现有基础上提出了一种新技术——高能炸药爆炸加载喷涂......
化学气相沉积钨涂层具有工艺简单、技术成熟度高、涂层综合质量优异等特点,广泛应用于国防、航天、核工业等领域。首先介绍了化学......
采用等离子喷涂技术,在C/C-Cu复合材料表面制备W涂层,采用氧乙炔焰进行烧蚀考核,通过金相显微镜、扫描电镜及X射线衍射仪对烧蚀前......
利用X射线荧光能谱仪、扫描电镜及其能谱仪和显微硬度计等方法对CVD法制备的钨涂层进行了成分、显微组织分析,并测试了其显微硬度......
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聚变能的发展不仅依赖于关键材料的选择,而且更依赖于关键材料的制备技术和连接技术。面向等离子体材料及其部件(PFM/PFC)的设计与......
核聚变是最终解决人类能源问题的主要途径,聚变能走向应用的技术载体是聚变反应堆,聚变堆核心部件包层的高温、高应力、强辐照工作......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
以高纯度（质量分数99.95%）钨粉为原料,通过丝网印刷的工艺,在钨发热元件表面高温烧结,得到了疏松、多孔的钨涂层。采用扫描电镜观察......
研究了在一定温度的石墨基体表面上用化学气相沉积钨涂层的方法.通过调节氢气、氯气的气流量,控制流量比,得到了具有一定厚度、晶......
采用化学气相沉积与热等静压相结合的方法在无氧铜表面制备了难熔金属钨涂层得到铜钨复合材料。研究了钨涂层及铜钨界面的微观组织......
采用等离子喷涂技术,在C/C-Cu复合材料表面制备钨涂层,在真空炉中进行真空热处理。研究的热处理对涂层结构和氧乙炔焰烧蚀性能的影......
采用等离子球化技术对不规则钨粉进行球化,以还原后的球形钨粉为原料于CuCrZr合金基体上在氮气保护下,用大气等离子喷涂制备聚变堆......
采用冷动力喷涂法以纯钨和钨-镍-铁合金为原料在铜合金基体上制备了钨涂层和钨-镍-铁涂层.研究了冷喷涂过程中钨粉粒径、喷涂距离......
金属钨因其高的熔点,低的溅射产额和良好的热物理性能被选为核聚变堆第一壁面向等离子体材料的候选材料(PFMs, Plasma Facing Mate......
难熔金属钨具有高强度、低蒸汽压、无化学腐蚀性等优点,被选为核聚变堆面向等离子体材料。通过各种工艺手段将钨涂覆在基体材料表......
核聚变能的关键问题在于材料问题,而W由于具有高熔点、高溅射阀值、较高的热导率、H滞留极低、不与H发生反应等优点成为最具有应用......
钨具有金属材料中最高的熔点,最低的蒸气压,良好的热导率和高温强度及尺寸稳定性,不会与氚形成混合物或发生共沉积等优点而被选为......
通过使用国内不同型号的大气等离子体喷涂设备，采用等离子体球化技术对普通商业钨粉进行球化，球化过程中利用水冷系统收集钨粉，研究了......
