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高纯Al相关论文

采用EBSD方法研究高纯Al溅射靶材的微观结构

高纯Al溅射靶材在电子信息产品制造业有着广泛应用。微观结构与组织的均匀性、晶粒尺寸和取向分布对高纯Al溅射靶材的性能有很大的......

期刊

高纯Al 靶材晶粒取向 EBSD high purity aluminum sputtering target grain orientation EBS

等径角挤压和单向轧制高纯Al再结晶晶界面的取向分布

选用经多向锻造和再结晶退火的晶粒组织均匀(平均晶粒尺寸为20 mm)且取向均匀的高纯Al(99.99%)为原料,将2组平行样品分别进行等效......

期刊

高纯Al 等径角挤压单向轧制再结晶晶界面分布

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