【摘 要】
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利用纳米孔研究DNA生物大分子是一个非常活跃的研究领域.由于聚焦离子束在微纳加工方面的独特优势,可以被用来加工这种纳米孔.为了控制加工的可重复性,本文对不同离子束流以及点覆盖率和点停留时间加工绝缘材料Si3N4的实验条件进行摸索,结果发现采用增强刻蚀模式的刻蚀速率最快.采用370pA的离子束流,其刻蚀速率可达0.164μm3/s.实验选取刻蚀速率适中的普通刻蚀模式进行系统研究,发现加工最大深宽比可
【机 构】
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中国科学院物理研究所微加工实验室,中国北京,100080
【出 处】
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第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会
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利用纳米孔研究DNA生物大分子是一个非常活跃的研究领域.由于聚焦离子束在微纳加工方面的独特优势,可以被用来加工这种纳米孔.为了控制加工的可重复性,本文对不同离子束流以及点覆盖率和点停留时间加工绝缘材料Si3N4的实验条件进行摸索,结果发现采用增强刻蚀模式的刻蚀速率最快.采用370pA的离子束流,其刻蚀速率可达0.164μm3/s.实验选取刻蚀速率适中的普通刻蚀模式进行系统研究,发现加工最大深宽比可达5以上.结合再沉积绝缘薄膜的辅助技术得到了直径为20nm的纳米孔.
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