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用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅
用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:YAOGUOCHUN
【摘 要】
:
采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅,一次曝光,分步显影,基本解决了不同胶层间互融的问题.该方法制作效率高,所制作的T型栅形貌好,头脚比例可控,基本满足器件制作要求.
【作 者】
:
孙加兴
叶甜春
陈大鹏
谢常青
伊福庭
【机 构】
:
中国科学院微电子中心,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
X射线光刻
PHEMT
T型栅
三层胶工艺
X-ray lithography
PHEMT
T-shaped gate
tri-layer resist tec
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采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅,一次曝光,分步显影,基本解决了不同胶层间互融的问题.该方法制作效率高,所制作的T型栅形貌好,头脚比例可控,基本满足器件制作要求.
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