【摘 要】
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镍铬电阻作硅高频大功率晶体管的发射条镇流电阻早已广泛采用,而且成为不可缺少的工艺.但大面积镍铬膜厚度不均匀性造成的种种蔽病(如返工、管芯报废及抗二次击穿性能低劣)
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镍铬电阻作硅高频大功率晶体管的发射条镇流电阻早已广泛采用,而且成为不可缺少的工艺.但大面积镍铬膜厚度不均匀性造成的种种蔽病(如返工、管芯报废及抗二次击穿性能低劣)已成为生产的障碍.从75年以来改用较为有效实用的钨丝电极蒸发镍铬膜,经几年工艺实践证明用这种电极蒸发的镍铬膜均匀,重复性好,操作方便,结构简单且实用性好.
Nickel-chromium resistor for the launch of high-frequency high-power transistor transistor ballast resistance has long been widely used, and has become an indispensable process.But a large area of nickel-chromium film caused by non-uniformity of various diseases (such as rework, die scrap and Anti-secondary breakdown performance) has become an obstacle to production. Since 75 years to switch to a more effective and practical tungsten electrode evaporation of nickel-chromium film, after several years of process proved that using this electrode evaporation of nickel-chromium film uniform, repeated Good sex, easy to operate, simple structure and good practicability.
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