论文部分内容阅读
激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中，基底材料具有高反射率，由于垂直驻波的影响，光刻胶浮雕图形侧壁产生“束腰”，本文将O2反应离子刻蚀引入到制作工艺中，对光刻胶图形进行修正，获得了很好的效果，具有工艺简单、可控性好等特点。以50nm厚的由磁控溅射生长的Ta／Co0.9Fe0.1／Ta薄膜为基底，采用激光干涉光刻结合离子束刻蚀转移图形的方式，制作出了特征尺寸为330nmCo0.9Fe0.1亚微米周期结构，并采用SQUID的技术对其磁滞回线进行了研究。