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以乙酰丙酮铱和乙酰丙酮铂为前驱体，采用金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）技术在钼基体上沉积了Ptlr薄膜。研究了前驱体加热温度对Ptlr薄膜结构、成分和沉积速率的影响。结果表明，MOCVD的Ptlr薄膜为合金膜，Pt—Ir合金薄膜成分、沉积速率随前躯体加热温度变化而变化，并存在板值点。
前驱体加热温度对Pt—Ir合金薄膜的成分与沉积速率的影响
【摘 要】
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以乙酰丙酮铱和乙酰丙酮铂为前驱体，采用金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）技术在钼基体上沉积了Ptlr薄膜。研究了前驱体加热温度对Ptlr薄膜结构、成分和沉积速率的影响。结果
【机 构】
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昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明贵金属研究所云南贵金属材料重点实验室
【出 处】
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贵金属
【发表日期】
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2010年1期
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