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期刊论文
微波低噪声SiGeHBT的研制
微波低噪声SiGeHBT的研制
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:abcprint
【摘 要】
:
利用3μm工艺条件制得SiGe,器件的特征频率达到8GHz.600MHz工作频率下的最小噪声系数为1.04dB,相关功率增益为12.6dB,1GHz工作频率下的最小噪声系数为1.9dB,相关功率增益为9dB,器件在微波无线通信领域具有很大的应用前景。
【作 者】
:
钱伟
张进书
【机 构】
:
TsinghuaUniv
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2000年5期
【关键词】
:
微波
低噪声
锗化硅
HBT
晶体管
HBT
SiGe
microwave
low noise
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利用3μm工艺条件制得SiGe,器件的特征频率达到8GHz.600MHz工作频率下的最小噪声系数为1.04dB,相关功率增益为12.6dB,1GHz工作频率下的最小噪声系数为1.9dB,相关功率增益为9dB,器件在微波无线通信领域具有很大的应用前景。
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