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利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法，设计并利用电子束直写系统加工了实现邻近效应校正的灰阶编码掩模，首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正，获得了满意的实验结果，在可加工０．７微米的Ｉ线曝光装置上获得了经邻近效应校正的０．５微米光刻线条。
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
【摘 要】
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利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法，设计并利用电子束直写系统加工了实现邻近效应校正的灰阶编码掩模，首次在投影光刻系统上用这一方法实
【机 构】
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四川大学物理系,英国卢瑟福国家实验室微结构中心
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2000年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目!(6 990 70 0 3)
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