【摘 要】
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在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
Based on the existing domestic lithography equipment, a three-laye
【机 构】
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骊山微电子学研究所,骊山微电子学研究所,骊山微电子学研究所 陕西临潼 710600,陕西临潼 710600,陕西临潼 710600
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在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
Based on the existing domestic lithography equipment, a three-layer adhesive technology capable of copying submicron patterns has been successfully developed and used to fabricate submicron circuits.
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