X射线光刻相关论文
Ｘ射线光刻综述＝Ｘ－ｒａｙｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ－ａｎｏｖｅｒｖｉｅｗ［刊，英］／Ｐｅｃｋｅｒａｒ．Ｍ．Ｃ．…Ｐｒｏｃ．ＩＥＥＥ．－１９９３．８１（９）．－１２４９～１２７４论述了Ｘ射线光刻的基本原理，讨论了分辨率、硅片产量及工艺范围等问题。把Ｘ射线...
X-ray lithography overview ......
同步辐射X射线光刻自从被提出来以后,就日益引起了许多人的注意.它具有许多优点,比如高分辨率、大的工艺宽容度、高产量等,被普遍......
利用BeamPropagationMethod（BPM）方法研究了深亚微米同步辐射X射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利-索末非理论对光刻胶......
我国深度Ｘ射线光刻技术获突破最近，由中国科学院长春光机所采用自制的加厚金掩膜，与中国科学院高能物理所密切合作，在经改进的同步辐射......
同步辐射X射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置3BlA光刻束线上的曝光结果，并对X射线掩模的制作......
报道了用 Ｘ 射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ Ｂ Ｓ Ｒ Ｆ）３ Ｂ Ｉ Ａ 光刻束线获得的 ０５μｍ 光刻分辨率的实验结果。
The experim......
超大规模集成电路（ＶＬＳＩ）线宽的不断缩小，促进了光刻技术的发展和分辨率的提高，使分辨率已进入到深亚微米区域。光学光刻分辨率的提高是依靠......
报道了我们制作深亚微米 x射线掩模的工艺和同步辐射 x射线曝光工艺 ,并报道了我们在北京同步辐射装置 (BSRF) 3B1 A光刻束线所获......
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基......
目前大部分x射线源使用旋转水冷靶,但旋转靶会引起振动,使引出束晃动,降低了分辨率,振动也会使片子移动,产生对准误差。固定靶避......
研究机关IBM』〕吧11HugbesP一E光Si1sRoek W.II日本VLsl共研武藏野通研AK(8 .34)PdL(4 .38)A(8 .34)WM(27)A IK(8.34)入IK(8 .34)......
本文从X射线源、掩模和X射线光刻装置等几个方面,阐述了X射线光刻技术近年来的新进展。并预示了这种新型的亚微米加工技术在八十年......
光束线由前端、Be窗、激光对准、曝光快门、镜箱、3个VAT气动阀、差分系统、单次曝光机及微机测量控制系统等组成.
Beam line fro......
介绍了一种超微细加工新方法－ＬＩＧＡ技术，并就ＬＩＧＡ技术对掩模材料、光刻胶和光源的要求予以讨论，同时还介绍了国外在这方面的最新研究成果。ＬＩＧＡ技术......
喷气式Ｚ箍缩等离子体装置可以产生较强的软Ｘ射线，能量大约在２—６ｋｅＶ之间。利用此装置产生的软Ｘ射线，用ＣＳＭ作光刻胶，进行了Ｘ射线光刻的初步研究，得到......
X射线光刻相对于其他下一代光刻技术而言有许多优点,比如其工艺宽容度大、成品率高、景深大、曝光视场大、成本低等,更为重要的是,......
本文将电子束曝光和X射线曝光技术相结合以制造X射线波段螺旋波带片。用电子束曝光和微电镀技术在镂空薄膜上制备母波带片X射线掩......
下一代光刻技术（ＮＧＬ）研究和选择已经成为当前半异体制造行业最为引人关注的热点问题。在这些技术之中，Ｘ射线光刻技术被认为是最接近于实用......
介绍了利用电子束和 X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的 X射线聚焦或色散元件的新方法 (波长范围为 1～ 5 nm )。所制做的厚......
在满足工艺要求的前提下,通过模拟光栅衍射,设计出镂空透射光栅模型,在此基础上将电子束和X射线光刻技术相结合,研究了制造2000l/m......
纳米压印光刻技术是近年来出现的一种新型微细加工技术，也是下一代光刻技术的候选者之一。采用纳米压印光刻技术进行纳米器件研究也......
高线密度X射线透射光栅是X射线光栅谱仪的核心色散元件，其制作工艺繁复冗长，制作难度大，是制约我国等离子体诊断和太空探测等领域发展......
对同步辐射X射线光刻及在GaAsPHEMT器件制作中的应用进行了研究,并制作出栅长0.15μm的AlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMT晶体管。研究结果......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本......
介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件--XLSS 1.0.该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结......
金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量.分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国......
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术 ,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种 ,具有产业化的应用前景。掩模技术......
GaAs半导体材料可以提高器件运行速度，日益引起人们的注意，但是也给器件制造者带来了许多问题。在本文个，一个全新的可应用于HEMT器件......
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X......
X射线光刻(XRL)采用约lnm波长的X射线,是一种接近式光刻.就光刻工艺性能而言,XRL能同时实现高分辨率、大焦深、大像场等,是其他光......
阐述了等离子体的产生机理和影响软Ｘ射线产生的因素，利用产生软ｘ射线的实验系统，分析了软ｘ射线转换效率与原子数的关系及其空间相干性，给......
利用Ｂｅａｍ Ｐｒｏｐａｇａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ（ＢＰＭ）方法研究了深亚微米同步辐射Ｘ射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利－索末非理论对光刻胶表现的空间像光强分布进......
同步辐射Ｘ射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线上的日光结果，并对Ｘ射线掩模的制作工艺作......
报道了用Ｘ射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３ＢＩＡ光刻束线获得的０．５μｍ的光刻分辨率的实验结果。......
介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件--XLSS 1.0.该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结......
X射线光刻掩模是下一代光刻技术(NGL)中的X射线光刻技术的关键技术难点。在电子束直写后的掩模后烘过程中，掩模表面的温度场分布及......
介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精......
针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的......
提供了采用电子束光刻、X射线光刻和金属剥离技术制作亚微米尺寸的声表面波叉指换能器的方法。首先利用电子束光刻和微电镀技术制......
为了制备高线密度X射线透射光栅掩模，分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响；利用几何校正技术和低灵敏度的950k的PMMA......
