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提高光学光刻分辨力是现代光学光刻技术研究的核心内容,而提高光刻分辨力的主要手段是进一步增大光刻物镜的数值孔和进一步缩短曝......
介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调信调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细......
介绍用于０．３５μｍ投影光刻机的逐场调平技术，讨论其检测和控制原理，并作精度分析；讨论逐场调平对套刻精度的影响，并建立三轴测量逐场调平的套......
