电离器相关论文
简单介绍用球面电离器的多靶位强流溅射负离子源的使用情况。比较仔细叙述新的换靶机构和与之配套的电控系统。报导源的一些改进。......
研究制作了多种溅射负离子源靶,在2×1.7MV串列加速器上采用Middleton-Ⅶ型溅射负离子源引出了流强大、稳定的30多种元素的负......
介绍自制溅射型负离子源及其关键部件——电离器的材料、结构、制作及使用情况。得到碳束C~-总流强】780μA,硅束Si-250μA.此电离......
球面电离器的采用使溅射区域缩小到直径～0.75mm;用3根远离溅射区的瓷柱取代原来绝缘阴极的瓷环,可使溅射电压在10kV以内稳定工作。......
自１９９５年以来，在中科院近物所２ＭＶ串列静电加速器上对溅射负离子源进行了调试，调试中对源体作了重大的改进，逐步完善了运行工艺，利用该离子源加......
在超净房间超大规模集成电路生产中,静电放电引起两个极为严重的问题:一个是静电放电(ESD)对敏感电路元件的损害;另一个是静电向重......
在整个半导体制造过程中,微粒污染;静电放电损坏以及与此相关联的设备停机,是静电带来的三大问题。所以必须对静电加以控制。国际......
介绍一种用于分离废气中细小固体和液体颗粒物的新型静电沉降器。由于采取了全新结构的电离器和收集器，与普通WESP装置比，该分离器占......
